上海喷涂车间废气处理设备生产厂家

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上海喷涂车间废气处理设备生产厂家设备介绍
1、光催化是利用TiO2作为催化剂的光催化过程，反应条件温和，光解迅速，产物为CO2和H2O或其它，而且适用范围广，包括烃、醇、醛、酮、氨等**物，都能通过TiO2光催化清除。
2、其机理主要是光催化剂二氧化钛吸收光子，与表面的水反应产生羟基自由基(·OH)和活性氧物质（·O，H2O2），其中羟基自由基(·OH)是光催化反应的一种主要的活性物质，对光催化氧化起决定作用。
3、羟基自由基具有120kJ/mol的反应能，****物中的各类化学键能，如：C-C(83kJ/mol)，C-H(99 kJ/mol)，C-N(73kJ/mol)，C-O (84kJ/mol)，H-O (111kJ/mol)，N-H(93 kJ/mol)，因而能迅速有效地分解挥发性**物和构成细菌的**物，再加上其它活性氧物质(·O，H2O2)的协同作用，其杀菌效果更为迅速。
上海喷涂车间废气处理设备生产厂家设备原理
1、其机理为：?Fe(OH)2++?hv→Fe2++2·OH?由于上述反应存在，使得H2O2的分解速率远大于Fe2+催化H2O2的分解速率。?
2、当用光照半导体材料，如果光子的能量**半导体的禁带宽度，则半导体的价带电子从价带跃迁到导带，产生光致电子和空穴（如半导体TiO2的禁带宽度为3.2eV）。当光子波长小于385nm时，电子就发生跃迁，产生光致电子和空穴。光致电子空穴具有很强的氧化性，可夺取半导体颗粒表面吸附的**物或溶剂中的电子，使原本不吸收光而无法被光子直接氧化的物质，通过光催化剂被活化氧化。
3、光致电子具有很强的还原性，使得半导体表面的电子受体被还原。但是迁移到表面的光致电子和空穴又存在符合的可能，降低了光催化反应的效率。为了提高光催化效率吧，需要适当的俘获剂，降低电子和空穴复合的可能性，这是近年来光催化研究的重点。光催化氧化还原机理可以分为几个阶段：光催化剂在光照射下产生电子空穴对；表面羟基或水吸附后形成表面活性中心；表面活性中心吸附水中的**物；羟基自由基形成，**物被氧化；氧化产物分离。
上海喷涂车间废气处理设备生产厂家处理设备参数
型号	处理风量	规格尺寸（mm）	进出尺寸（mm）	设备阻力
		Ф（直径）	H（高度）		
BD-XT-010	2700	600	3915	Ф300	400 Pa
BD-XT-012	4200	750	3965	Ф350	450 Pa
BD-XT-023	6000	900	4015	Ф450	500 Pa
BD-XT-026	7800	1050	4195	Ф500	500 Pa
BD-XT-031	10200	1200	4315	Ф560	550 Pa
BD-XT-033	13200	1350	4430	Ф630	550 Pa
BD-XT-042	16200	1500	4530	Ф700	550 Pa
BD-XT-048	19200	1650	4630	Ф750	600 Pa
BD-XT-052	22800	1800	4840	Ф850	600 Pa
BD-XT-063	31800	2100	4620	Ф900	600 Pa
BD-XT-078	42000	2450	4750	Ф1050	600 Pa

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